QIII表面微粒子计数器 表面洁净分析仪

产品描述

表面微粒密度验证表面微粒子密度分析仪(表面清洁验证)及产品资料
表面微粒子密度分析计数器
美国 Pentagon QIII max(0.3um) and QIII Ultra(0.1miron)
物体表面微粒子计数器产品目录,对于做为表面微粒子检测来说是必须的验证工具且能够使贵公司的客户认可.
供您参考.我们是美国 Pentagon  中国区 的总代理商.

目前报价 约
Pentagon QIII max(0.3um) USD ex-work
Pentagon QIII Ultra(0.1miron)  USD ex-work
若要换算成RMB含  17%  （含进口关税,运费保险,17% 增值税 及相关进口费用）
 正式报价 以 详细报价单为主

QIII Max /Ultra更新功能：
1. 新的取样模式增加准确度
2. 7" 800X480大触控萤幕 (QIII+ 6"触控萤幕)
3. 改善取样Probe插座.易拔插与更换
4. 二个使用者可换电池插座.可热拔插 (原厂标配2颗电池.充电器选配)
5. 可利用USB下载资料
6. QIII Ultra 可量测到0.1Micron
以下为QIII Max &QIII Ultra 详细粒径分布：
QIII Max QIII Ultra
0.3um 0.1um
0.5um 0.2um
1.0um 0.3um
3.0um 0.5um
5.0um 1.0um
10.0um 5.0um

适合使用单位:
      适合客户群:  包装材料厂商: 如包装材, 无尘纸,.....等
      药厂设备机台装表面清洁验证: 理瓶区,灌装机, 分装机, 药厂包装材料厂商: 如包装材,....

         无菌医疗机械初包装洁净度 T/CAMDI 009.1-2020  微粒汙染试验方法 气体吹脱法
       半导体黄光, 蚀刻制程, 零件清洗商,设备清洁维护, 光电厂, 玻璃基板厂等
        对曝光机; 显影机 ,蚀刻, 黄光 及偏光板贴附机台效果显着
         Capture filter 能收集particles 由EDX 或FTIR分析particle 成分。
         适合单位 : PVD, CVD, Photo, Ion Plant, YE, QA, QC ,  Microntation , Etch, Diffusion..

QIII+  , QIII ultra, QIII max, QIII LS,
QIII ST,  QIII SM,  QIII SX,

涂装车间“洁净度新标准 — ISO14644-9

产品规格︰ 表面洁净度, 表面微粒密度验证,表面微粒子密度分析仪(表面清洁验证)及产品资料,
表面微粒子密度分析计数器
目台X电; 联X电...等 皆选用此机型
提升良率; 确认wiper擦拭方式及机台保养是否达到清洁的效果
注意事项：
应用: IEST-CC-1246D
美国Pentagon Technologies针对从submicron至deep submicron (0.18, 0.13..) 的Production机台, 建立了特别的PM procedure可降低50% Test Wafer的消耗量及增加OEF(Overall Equipment Effectiveness), 其应用于各种Thin Film( PVD, CVD..), Etching and Diffusion Equipments. 以及工作台面积台表面洁净度..等的验证. 此已为目前机台维护作业时的标准工具之一.以及搭配MetOne Particle Counter对Mini-environment中量测particle, TRH, DP, velocity..的监视系统可帮助Module equipment, process engineer/manager了解contamination issue.
Pentagon Technologies 亦针对Fab整体的contamination可提供详细的侦测及评估(曾在TSMC, UMC,ADM fab 25…)进而提高OFE (Overall Fab Effectiveness), 这可提供QA人员非常advanced的帮助。

产品优点︰ 适合使用单位: IEST-CC-1246D, ISO14644-9,
1.适合客户群: 半导体黄光, 蚀刻制程, 零件清洗商,设备清洁维护, 光电厂, 玻璃基板厂等
2.Capture filter 能收集particles .由EDX 或FTIR分析particle 成分。
3.适合单位 : PVD, CVD, Photo, Ion Plant, YE, QA, QC , Microntation , Etch, Diffusion..
4.对曝光机; 显影机 ,蚀刻, 黄光 及偏光板贴附机台效果显著
QIII+ , QIII ultra, QIII max, QIII LS,
QIII ST, QIII SM, QIII SX,
无菌医疗机械初包装洁净度
T/CAMDI 009.1-2020
微粒汙染试验方法 气体吹脱法
涂装车间“洁净度新标准 — ISO14644-9

主要市场︰ 半导体黄光, 蚀刻制程, 零件清洗商,设备清洁维护, 光电厂, 玻璃基板厂等

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